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上海思峻自主研發(fā)生產(chǎn)的SGN/思峻 德國超高速超細納米研磨分散機,具有高轉(zhuǎn)速、低能耗、低噪音、高壽命等優(yōu)勢,經(jīng)過SGN全體研發(fā)生產(chǎn)部員工的不懈努力,終于解決了SGN高剪切研磨分散機的提速問題。市場上一般使用的研磨分散機由于定轉(zhuǎn)子精度以及機械密封的原因,轉(zhuǎn)速Z高只能達到2910轉(zhuǎn),而SGN研發(fā)的立式分體式研磨分散機將轉(zhuǎn)速提高到9000轉(zhuǎn),從而更好的解決了市場的需求。
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ARTICLES型號: | GM2000 |
材質(zhì): | 不銹鋼 |
裝機容量: | 200 |
品牌: | SGN |
功率: | 2.2 |
容積: | 1000 |
介質(zhì)尺寸: | 20 |
用途: | 生物 化工 醫(yī)藥 食品 化妝品 |
SGN/思峻 德國超高速超細納米研磨分散機,高剪切超細研磨分散機,超細乳化設(shè)備,進口研磨分散機,對于研磨分散機來說zui大的一個目的就是要達到乳化的效果,那么從設(shè)備角度來說影響乳化效果的因素有哪些呢?
1、乳化頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2、乳化頭的剪切速率(越大,效果越好)
3、乳化頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
4、物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)。
5、循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)
另外線速度是衡量設(shè)備效果的一個重要的指標
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
–剪切速率 (s-1) = v速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
–轉(zhuǎn)子的線速率
–在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
CIK 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V=3.14 XD(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM/60
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上海思峻自主研發(fā)生產(chǎn)的SGN/思峻 德國超高速超細納米研磨分散機,具有高轉(zhuǎn)速、低能耗、低噪音、高壽命等優(yōu)勢,經(jīng)過SGN全體研發(fā)生產(chǎn)部員工的不懈努力,終于解決了SGN高剪切研磨分散機的提速問題。市場上一般使用的研磨分散機由于定轉(zhuǎn)子精度以及機械密封的原因,轉(zhuǎn)速zui高只能達到2910轉(zhuǎn),而SGN研發(fā)的立式分體式研磨分散機將轉(zhuǎn)速提高到9000轉(zhuǎn),從而更好的解決了市場的需求。
,主要用于微乳液及超細懸浮液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時工作,乳液經(jīng)過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換,適合不同的工藝應(yīng)用。該系列中不同的型號的機器都有相同的線速度和剪切率,非常易于擴大生產(chǎn)。適宜的溫度,壓力與粘度參數(shù)與DISPERSING一樣。也符合CIP/SIP清潔標準,適合食品及醫(yī)藥生產(chǎn)。
納米研磨分散機的特點:具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性;該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質(zhì)混合;三級研磨分散機由定、轉(zhuǎn)子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加,從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
GM2000/4 | 300-1,000 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25 | DN15 |
GM2000/5 | 3,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40 | DN32 |
GM2000/10 | 8,000 | 4,200 | 23 | 15 | DN50 | DN50 |
GM2000/20 | 20,000 | 3,000 | 23 | 37 | DN80 | DN65 |
GM2000/30 | 40,000 | 1,500 | 23 | 55 | DN150 | DN125 |
GM2000/40 | 70,000 | 1,500 | 23 | 90 | DN150 | DN125 |
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