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GMD2000/4 高新精細氧化鎂納米研磨分散機一、設備供應：高新精細氧化鎂納米研磨分散機,納米醫(yī)用級氧化鎂乳化機,氧化鎂納米研磨分散機,氧化鎂納米分散均質設備
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ARTICLES一、設備供應：
高新精細氧化鎂納米研磨分散機,納米醫(yī)用級氧化鎂乳化機,氧化鎂納米研磨分散機,氧化鎂納米分散均質設備
二、應用領域：
隨著產業(yè)化升級及高新技術功能材料市場的需求和發(fā)展，研發(fā)生產出一系列高新精細氧化鎂產品，主要用于高級潤滑油、高級鞣革提堿級、食品級、醫(yī)藥級、硅鋼級、高級電磁級、高純氧化鎂等近十個品種組成。
三、設備介說明：
SGN德國納米醫(yī)用級氧化鎂研磨分散機在分散氧化鎂時通過14000rpm超高的轉速形成的*剪切力使物料在0.2-0.3mm極細的定轉子間隙中形成每分鐘數(shù)以 萬次的撞擊、破碎、撕裂，將原本抱團的納米級氧化鎂進一步的破碎，打開團塊形成納米級顆粒狀，為防止被打碎的納米級氧化鎂顆粒再次抱團，我們在研 磨后又加了一級分散均質盤，對物料進行*的分散，阻止物料再進行二次抱團。氧化鎂分散的越細越均一，對于后期做應用性能就越好！
GMD2000/4 高新精細氧化鎂納米研磨分散機
四、影響納米材料分散要素：
1、分散介質
（1）根據(jù)粘度不同，分散介質分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質中，如水和有機溶劑，納米材料易于分散。中粘度介質如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等，高粘度介質如熔融態(tài)的塑料。
2、分散劑
（1）分散劑的選擇，與分散介質的結構、極性、溶度參數(shù)等密切相關。
（2）分散劑的用量，與納米材料比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關。
（3）水性介質中，推薦使用TNWDIS。強極性有機溶劑中，如醇、DMF、NMP， 推薦使用TNADIS。
3、分散設備
上海SGN（思峻）機械設備有限公司專門應對納米材料分散開發(fā)的高剪切三級分散機GMD2000系列適合大規(guī)模地分散納米氧化鋁，納米氧化鋅，納米氧化鈰，納米氧化鐵，納米氧化鉍，納料ATO合金等產品。納米金屬粉體、碳納米管、高純Al2O3、高純納米TiO2系列粉體、超活性納米TiO2催化劑、納米TiO2液體、納米TiO2銀抗菌劑、納米高純ZrO2、超細高純ZrO2、納米涂層材料、納米載銀抗菌粉、納米SiO2、納米ZnO、光觸媒、納米三防整理劑等系列粉體、液體、制劑在中、低粘度介質里的分散。
高新精細氧化鎂納米研磨分散機是高效、快速、均勻地將一個相或多個相固體進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設備的設備。
當其中一種或者多種材料的細度達到微米數(shù)量級時，甚至納米級時，體系可被認為均質。當外部能量輸入時，兩種物料重組成為均一相。高剪切均質機由于轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能，使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液。高剪切均質機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細的分散均質，經過高頻管線式高剪切分散機的循環(huán)往復，得到穩(wěn)定的高品質產品。
五、設備參數(shù)：
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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